特許
J-GLOBAL ID：200903085244533095

プラズマ加工装置およびプラズマ加工方法

発明者：
中濱 康治

中濱 康治 について

, 
森 勇蔵

森 勇蔵 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について

, 
森 勇蔵

森 勇蔵 について


代理人 (2件)： 山崎 宏 ,  田中 光雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-015177
公開番号（公開出願番号）：特開2008-181799
出願日： 2007年01月25日
公開日（公表日）： 2008年08月07日
要約：
【課題】反応生成物を周囲に飛散させることがなくて、被加工部材を精密に加工することができ、かつ、大掛かりなメンテナンス作業を必要としないプラズマ加工装置およびプラズマ加工方法を提供すること。【解決手段】回転電極2に、ガス滞留室16と、電極部33における回転軸23側とは反対側の端部の外面とガス滞留室16とを連通する吸引側ガス流路14と、回転軸23の外面とガス滞留室16とを連通する排出側ガス流路15とを形成する。【選択図】図2A
請求項（抜粋）：
被加工物を所定の位置に保持する被加工物保持部と、 回転軸と、上記被加工物が上記所定の位置に保持されている状態において、上記被加工物に上記回転軸の軸方向に対向し、かつ、上記回転軸の上記軸方向の一端につながって上記回転軸の回転に同期して回転する電極部とを有する回転電極と を備え、 上記回転電極は、 内部室と、 上記内部室と、上記電極部における上記回転軸側とは反対側の端部の外面とを連通する第1通路と、 上記内部室と、上記回転軸の外面とを連通する第2通路と を有することを特徴とするプラズマ加工装置。
IPC (2件)：
H05H 1/24 ,  H01L 21/306
FI (2件)：
H05H1/24 ,  H01L21/302 101E
Fターム (4件)：
5F004BB28 ,  5F004BB32 ,  5F004BC02 ,  5F004CA03
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (6件)
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