フォトマスクブランクスの製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小島隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-391498
公開番号（公開出願番号）：特開2003-195471
出願日： 2001年12月25日
公開日（公表日）： 2003年07月09日
要約：

【要約】【解決手段】有機物又は微小な異物により汚染された合成石英基板を低濃度フッ酸水溶液を用いて処理し、更にアルカリ液を用いて洗浄処理し、次いでこの洗浄して得られた合成石英基板上に遮光膜又は位相シフト膜を形成することを特徴とするフォトマスクブランクスの製造方法。【効果】本発明によれば、合成石英基板を、まず低濃度フッ酸水溶液を使用することにより、基板表面の微小異物を効率よく除去することができ、更に低濃度のアルカリリンスを続けて行うために残留フッ酸による基板の腐食を防止できる。またアルカリ液の濃度は低濃度であるため、通常の水によるリンスで除去可能である。更に、アルカリ液による処理により基板表面への微小異物の再付着が抑制される。このようにして得られた基板を用いて遮光膜又は位相シフト膜を成膜することにより、異物の発生の極めて少ないフォトマスクブランクスを得ることが可能である。

請求項（抜粋）：

有機物又は微小な異物により汚染された合成石英基板を低濃度フッ酸水溶液を用いて処理し、更にアルカリ液を用いて洗浄処理し、次いでこの洗浄して得られた合成石英基板上に遮光膜又は位相シフト膜を形成することを特徴とするフォトマスクブランクスの製造方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , B08B 3/08 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/08 A , G03F 1/08 Z , B08B 3/08 Z , H01L 21/30 502 P

Fターム (9件)：

2H095BB03 , 2H095BC04 , 2H095BC24 , 3B201AA02 , 3B201BB82 , 3B201BB92 , 3B201BB96 , 3B201CC01 , 3B201CC13

引用特許：

審査官引用 (9件)

石英ガラス基板の研磨剤及び研磨方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-016627 出願人：信越化学工業株式会社
精密基板の洗浄液及び洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-251534 出願人：信越化学工業株式会社
特開平2-247650

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