特許
J-GLOBAL ID：200903085561716278

セラミックプラズマ反応器、及びプラズマ反応装置

発明者：
桝田 昌明

桝田 昌明 について

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高橋 道夫

高橋 道夫 について

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水野 洋

水野 洋 について


出願人/特許権者：
日本碍子株式会社

日本碍子株式会社 について


代理人 (1件)： 渡邉 一平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-007181
公開番号（公開出願番号）：特開2009-170267
出願日： 2008年01月16日
公開日（公表日）： 2009年07月30日
要約：
【課題】単位電極間にガスを導入し、プラズマを発生させて効率よく処理することが可能なセラミックプラズマ反応器、及びプラズマ反応装置を提供する。【解決手段】板状のセラミック誘電体4と、その内部に配設された導電膜3とから形成され、所定の間隙を隔てて積層されてなる第一電極2aと第二電極2bを有する。第一電極2aの、単位電極2a,2b間の間隙とは反対側の面側に、保持部材7によって間隙を隔てて保持された隔壁板9を備え、保持部材7及び隔壁板9によってガス導入流通部21が形成されている。また、第一電極2aには、貫通孔15が形成され、ガス導入流通部21から貫通孔15を流通させて単位電極間にガスを導入し、単位電極2a,2b間に電圧を印加することによって単位電極2a,2b間を放電部11としてプラズマを発生させる。【選択図】図2B
請求項（抜粋）：
板状のセラミック誘電体と、前記セラミック誘電体の内部に配設された導電膜とから形成され、互いに対向して所定の間隙を隔てて積層されてなる複数の板状の単位電極を有し、 互いに隣接する前記単位電極の少なくとも一方の前記単位電極の、前記間隙とは反対面側にガスを導入して流通させるガス導入流通部を形成するガス導入流通部形成部が設けられ、 前記単位電極には、前記ガス導入流通部に面した前記単位電極の前記反対面であるガス導入流通部側面から前記間隙側の単位電極間側面へと貫通する複数の貫通孔が形成され、 前記貫通孔は、前記導電膜に設けられた導電膜貫通孔の部位に前記導電膜貫通孔よりも径が小さく形成されており、 前記ガス導入流通部から前記貫通孔を流通させて前記単位電極間に前記ガスを導入し、前記単位電極間に電圧を印加することによって前記単位電極間を放電部としてプラズマを発生させるセラミックプラズマ反応器。
IPC (5件)：
H05H 1/24 ,  B01D 53/56 ,  B01D 53/74 ,  B01J 19/08 ,  C01B 13/11
FI (4件)：
H05H1/24 ,  B01D53/34 129C ,  B01J19/08 E ,  C01B13/11 F
Fターム (18件)：
4D002AA12 ,  4D002BA09 ,  4D002GA01 ,  4D002GB20 ,  4G042CC04 ,  4G042CC21 ,  4G042CE02 ,  4G075AA03 ,  4G075AA07 ,  4G075AA37 ,  4G075BA05 ,  4G075BA06 ,  4G075EB01 ,  4G075EB42 ,  4G075EC21 ,  4G075FA01 ,  4G075FB04 ,  4G075FC15
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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