特許
J-GLOBAL ID：200903096951389075
ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-101754
公開番号（公開出願番号）：特開2002-296758
出願日： 2001年03月30日
公開日（公表日）： 2002年10月09日
要約：
【要約】【課題】 F2エキシマレーザの波長である157nm付近においてもなお利用が可能な光透過率を有し、特に、実際の露光プロセスの精度を上げるために必要な露光光に対する反射率を抑制することができる、ハーフトーン型位相シフトマスク及びブランク等を提供する。【解決手段】 位相シフター膜が、主に透過率を調整する機能を持った高屈折率層と、主に位相シフト量を調整する機能を持った低屈折率層とを交互に積層した4層以上の膜からなり、低屈折率層のうち少なくとも一層が、少なくとも露光光に対する反射防止機能を有するように設計されていることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
透明基板上に、露光光を透過させる光透過部と、露光光の一部を透過させると同時に透過した光の位相を所定量シフトさせる位相シフター部を有し、前記光透過部と位相シフター部の境界部近傍にて各々を透過した光が互いに打ち消し合うように光学特性を設計することで、被露光体表面に転写される露光パターン境界部のコントラストを良好に保持、改善できるようにしたハーフトーン型位相シフトマスクを製造するために用いるハーフトーン型位相シフトマスクブランクであり、透明基板上に前記位相シフター部を形成するための位相シフター膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、前記位相シフター膜が、主に透過率を調整する機能を持った高屈折率層と、主に位相シフト量を調整する機能を持った低屈折率層とを交互に積層した4層以上の膜からなり、低屈折率層のうち少なくとも一層が、少なくとも露光光に対する反射防止機能を有するように設計されていることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスクブランク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
2H095BB03
, 2H095BC13
, 2H095BC24
