プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：和泉良彦 , 小林茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-270987
公開番号（公開出願番号）：特開2004-200646
出願日： 2003年07月04日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：

【課題】大面積基板を処理することができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】矩形導波管1と、矩形導波管1に設けられ、導波管アンテナを構成する複数のスロット2と、誘電体からなる電磁波放射窓4と、真空容器5とを具備し、スロット2から電磁波放射窓4を通して真空容器5内に放射された電磁波によってプラズマを生成し、プラズマ処理を行うプラズマ処理装置であって、矩形導波管1が複数あり、矩形導波管1どうしが接して配置され、複数のスロット2に共通して対応する電磁波放射窓4を複数設け、マイクロ波源3から複数の矩形導波管1に電磁波を分配する電磁波分配用導波管部17を有し、複数の電磁波放射窓4と真空容器5との間で真空が保持され、スロット2がプラズマ処理する基板8の全面積に渡りほぼ均一に分布されている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

導波管と、前記導波管に設けられ、導波管アンテナを構成する複数のスロットと、誘電体からなる電磁波放射窓と、真空容器とを具備し、前記スロットから前記電磁波放射窓を通して前記真空容器内に放射された電磁波によってプラズマを生成し、プラズマ処理を行うプラズマ処理装置であって、前記導波管が複数あり、前記導波管どうしが接して配置され、電磁波源から複数の前記導波管に電磁波を分配する電磁波分配用導波管部を有し、複数の前記電磁波放射窓と前記真空容器との間で真空が保持されていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (7件)：

H01L21/31 , B01J3/00 , B01J19/08 , C23C16/511 , C23F4/00 , H01L21/3065 , H05H1/46

FI (7件)：

H01L21/31 C , B01J3/00 J , B01J19/08 E , C23C16/511 , C23F4/00 A , H05H1/46 B , H01L21/302 101D

Fターム (44件)：

4G075AA24 , 4G075AA30 , 4G075BC04 , 4G075BC06 , 4G075CA24 , 4G075CA47 , 4G075CA65 , 4G075DA02 , 4G075DA18 , 4G075EB01 , 4G075EC21 , 4G075EE31 , 4G075FC15 , 4K030BA30 , 4K030CA06 , 4K030FA01 , 4K030JA18 , 4K030KA30 , 4K030LA15 , 4K030LA18 , 4K057DA11 , 4K057DA16 , 4K057DA20 , 4K057DB06 , 4K057DD01 , 4K057DM29 , 4K057DN01 , 5F004AA01 , 5F004BA20 , 5F004BB14 , 5F004BD01 , 5F004BD04 , 5F045AA09 , 5F045AA20 , 5F045AB32 , 5F045AC11 , 5F045AC16 , 5F045AD07 , 5F045AF03 , 5F045CA15 , 5F045DP04 , 5F045EB02 , 5F045EH02 , 5F045EH03

引用特許：

出願人引用 (5件)

プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-240876 出願人：東京エレクトロン株式会社, 後藤尚久, 安藤真, 高田潤一, 堀池靖浩
特許第2857090号公報
マイクロ波を利用したプラズマ発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-073510 出願人：ミクロ電子株式会社

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審査官引用 (2件)

プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-264630 出願人：住友金属工業株式会社
プラズマ処理装置及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-010781 出願人：東京エレクトロン株式会社, 八坂保能

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