誘導結合プラズマ着火方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小山有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-150714
公開番号（公開出願番号）：特開2002-343600
出願日： 2001年05月21日
公開日（公表日）： 2002年11月29日
要約：

【要約】【課題】絶縁破壊によるリークを生じず、また、プラズマによって被処理物がチャージアップダメージを被ることのない誘導結合プラズマ着火方法を提供する。【解決手段】高周波出力、反応ガス流量およびチャンバー内圧力が共に低い状態で低エネルギー・低密度のプラズマを着火させ、プラズマ着火確認後に、高周波出力、反応ガス流量およびチャンバー内圧力を共に漸次増加させ、最終的に被処理物を処理できる低エネルギー・高密度のプラズマを発生させる。

請求項（抜粋）：

高周波出力、反応ガス流量およびチャンバー内圧力が共に低い状態で低エネルギー・低密度のプラズマを着火させ、プラズマ着火確認後に、高周波出力、反応ガス流量およびチャンバー内圧力を共に漸次増加させ、最終的に被処理物を処理できる低エネルギー・高密度のプラズマを発生させることを特徴とする誘導結合プラズマ着火方法。

IPC (8件)：

H05H 1/46 , B01J 19/08 , H01L 21/205 , H01L 21/265 , H01L 21/3065 , H05H 1/00 , C23C 14/48 , C23C 16/507

FI (8件)：

H05H 1/46 L , B01J 19/08 H , H01L 21/205 , H05H 1/00 A , C23C 14/48 Z , C23C 16/507 , H01L 21/265 F , H01L 21/302 A

Fターム (36件)：

4G075AA24 , 4G075AA30 , 4G075AA61 , 4G075AA65 , 4G075BC04 , 4G075BC06 , 4G075BC08 , 4G075BC10 , 4G075CA47 , 4G075DA18 , 4K029AA06 , 4K029AA09 , 4K029AA24 , 4K029DE01 , 4K029EA00 , 4K029EA03 , 4K029EA04 , 4K029EA09 , 4K030CA04 , 4K030CA06 , 4K030CA12 , 4K030FA04 , 4K030JA05 , 4K030JA09 , 4K030JA11 , 4K030KA39 , 5F004AA16 , 5F004BA20 , 5F004CA02 , 5F004CA03 , 5F004CA07 , 5F004CB01 , 5F045EE17 , 5F045EH11 , 5F045EH19 , 5F045GB08

引用特許：

審査官引用 (5件)

プラズマCVD法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-317524 出願人：株式会社半導体エネルギー研究所
円筒状部材の内周面への硬質カーボン膜形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-319257 出願人：シチズン時計株式会社
半導体装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-221886 出願人：山形日本電気株式会社

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