特許
J-GLOBAL ID：200903086421495391

ポジ型レジスト膜の剥離方法及び露光用マスクの製造方法、並びにレジスト剥離装置

発明者：
井村 和久

井村 和久 について


出願人/特許権者：
HOYA株式会社

HOYA株式会社 について


代理人 (1件)： 大塚 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-069133
公開番号（公開出願番号）：特開2005-317929
出願日： 2005年03月11日
公開日（公表日）： 2005年11月10日
要約：
【課題】消防法や各種環境法に基づく特別な管理を必要とせず、しかも低コストで処理可能で、大型基板に対しても大型で大掛かりな処理装置を必要としないポジ型レジスト膜の剥離方法を提供する。【解決手段】ポジ型レジスト膜を有する基板のレジスト膜面を露光、現像して、レジストのパターンを形成し、それをマスクとして薄膜をエッチングした後、該レジスト膜に露光光を全面照射して、現像液と接触させることにより該パターン化されたレジスト膜を剥離する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ポジ型レジスト膜を有する基板のレジスト膜面と光照射手段とを所定の方向に相対的に移動させることによって該レジスト膜面を露光した後、露光されたレジスト膜を、露光されたレジストを溶解する処理液と接触させることにより前記基板からポジ型レジスト膜を剥離除去することを特徴とするポジ型レジスト膜の剥離方法。
IPC (3件)：
H01L21/027 ,  G03F7/30 ,  G03F7/42
FI (3件)：
H01L21/30 572B ,  G03F7/30 501 ,  G03F7/42
Fターム (8件)：
2H096AA24 ,  2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096BA09 ,  2H096GA01 ,  2H096GA24 ,  5F046MA02 ,  5F046MA04
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (6件)
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