特許
J-GLOBAL ID:200903086708402912

低抵抗ポリマーマトリクスヒューズ装置および方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石田 敬 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-004659
公開番号(公開出願番号):特開2003-263949
出願日: 2003年01月10日
公開日(公表日): 2003年09月19日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】動作特性の安定した小形の低抵抗ヒューズを提供する。【解決手段】低抵抗ヒューズは、ヒューズ要素層、ならびにヒューズ要素層に対向する面に伸びて、且つそれに結合された第1および第2の中間絶縁層を含む。ヒューズ要素層は第1の中間絶縁層上に形成され、且つ第2絶縁層がヒューズ要素層に積層される。
請求項(抜粋):
ヒューズ要素(element)層、および前記ヒューズ要素層に対向する面(side)上に伸び、且つそれに結合された第1および第2の中間絶縁層、を含む低抵抗ヒューズであって;前記ヒューズ要素層が前記第1の中間絶縁層上に形成され、且つ前記第2の絶縁層が前記ヒューズ要素層に積層された(laminated)ヒューズ。
IPC (3件):
H01H 85/00 ,  H01H 69/02 ,  H01H 85/147
FI (4件):
H01H 85/00 G ,  H01H 69/02 ,  H01H 85/147 ,  H01H 85/14 A
Fターム (8件):
5G502AA01 ,  5G502BA08 ,  5G502BB05 ,  5G502BB09 ,  5G502BB13 ,  5G502BD02 ,  5G502CC04 ,  5G502JJ01
引用特許:
審査官引用 (6件)
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