特許
J-GLOBAL ID：200903087026394116

パターン形成体の製造方法

発明者：
山下 かおり

山下 かおり について

, 
小林 弘典

小林 弘典 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (2件)： 山下 昭彦 ,  岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-165362
公開番号（公開出願番号）：特開2005-003803
出願日： 2003年06月10日
公開日（公表日）： 2005年01月06日
要約：
【課題】本発明は、簡易な方法で、高精細なパターンを形成可能なパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、透明基材および、前記透明基材上に形成されたエネルギー照射に伴う光触媒の作用により特性が変化する特性変化層を有するパターン形成体用基板と、光触媒を含有する光触媒含有層および基体を有する光触媒含有層側基板とを、前記特性変化層および前記光触媒含有層が200μm以下となるように間隙をおいて配置した後、前記透明基材側から投影露光方式によりエネルギーを照射し、前記特性変化層の特性が変化した特性変化パターンを形成することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
透明基材および、前記透明基材上に形成されたエネルギー照射に伴う光触媒の作用により特性が変化する特性変化層を有するパターン形成体用基板と、光触媒を含有する光触媒含有層および基体を有する光触媒含有層側基板とを、前記特性変化層および前記光触媒含有層が200μm以下となるように間隙をおいて配置した後、前記透明基材側から投影露光方式によりエネルギーを照射し、前記特性変化層の特性が変化した特性変化パターンを形成することを特徴とするパターン形成体の製造方法。
IPC (5件)：
G03F7/20 ,  G02B5/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  H01L21/027
FI (5件)：
G03F7/20 521 ,  G02B5/20 101 ,  G03F7/004 521 ,  G03F7/075 521 ,  H01L21/30 502R
Fターム (13件)：
2H025AB14 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BH01 ,  2H025BH03 ,  2H025CB33 ,  2H025DA19 ,  2H025DA40 ,  2H048BA02 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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引用文献：
出願人引用 (1件)
  • 光触媒で微細加工 バイオチップなどに応用 東大が新技術
審査官引用 (1件)
  • 光触媒で微細加工 バイオチップなどに応用 東大が新技術

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