特許
J-GLOBAL ID：200903031613750426

露光用マスク及びパターニング方法

発明者：
青木 敬

青木 敬 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 渡邊 隆 ,  志賀 正武 ,  実広 信哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-085758
公開番号（公開出願番号）：特開2004-294684
出願日： 2003年03月26日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：
【課題】光触媒を用いてより効率的に光を利用することができ、これによって格段にパターニングに要する時間を短縮化することができる露光用マスクとこれを用いたパターニング方法を提供する。【解決手段】光触媒の作用により特性の変化する特性変化層16を透光性基板15上に有した被パターニング体17を、露光用マスク10を用いて露光処理することにより特性変化層16に特性の変化したパターンを形成するパターニング方法である。露光用マスク10として、光触媒を含有した光触媒含有層11と、この光触媒含有層11の一方の側に設けられた光反射層12とを備えてなるものを用い、露光用マスク10の光触媒含有層11を被パターニング体17の特性変化層16に接触させ、その状態で、被パターニング体17の透光性基板15側から光触媒含有層11に向けて光を選択的に照射し露光する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
光触媒の作用により特性の変化する特性変化層を透光性基板上に有した被パターニング体の、前記特性変化層に特性の変化したパターンを形成するための露光用マスクであって、 前記光触媒を含有した光触媒含有層と、この光触媒含有層の一方の側に設けられた光反射層とを備えてなることを特徴とする露光用マスク。
IPC (2件)：
G03F1/14 ,  B01J35/02
FI (2件)：
G03F1/14 Z ,  B01J35/02 J
Fターム (22件)：
2H095BC24 ,  4G069AA03 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA14A ,  4G069BA14B ,  4G069BA17 ,  4G069BA22A ,  4G069BA48A ,  4G069BB04A ,  4G069BB06A ,  4G069BC12A ,  4G069BC22A ,  4G069BC25A ,  4G069BC35A ,  4G069BC50A ,  4G069BC60A ,  4G069BC66A ,  4G069CD10 ,  4G069EA11 ,  4G069EB15Y ,  4G069ED02
引用特許：
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (13件)
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