特許
J-GLOBAL ID：200903014369273376

光導波路およびその製造方法

発明者：
山本 学

山本 学 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 山下 昭彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-342034
公開番号（公開出願番号）：特開2003-139975
出願日： 2001年11月07日
公開日（公表日）： 2003年05月14日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、濡れ性変化層上に親液性のパターンを形成する際の露光後の後処理を不要とし、かつこのパターンが精度良く形成されたものであり、また光導波路自体に光触媒を含まない構成であることから、劣化の心配がない光導波路を提供することを主目的とするものである。【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により液体との接触角が低下するように濡れ性が変化し、かつ光触媒を含まない濡れ性変化層と、前記濡れ性変化層上にパターン状に形成されたコア層と、前記コア層を覆うように濡れ性変化層上に形成された上部クラッド層とを有することを特徴とする光導波路を提供する。
請求項（抜粋）：
エネルギー照射に伴う光触媒の作用により液体との接触角が低下するように濡れ性が変化し、かつ光触媒を含まない濡れ性変化層と、前記濡れ性変化層上にパターン状に形成されたコア層と、前記コア層を覆うように濡れ性変化層上に形成された上部クラッド層とを有することを特徴とする光導波路。
IPC (2件)：
G02B 6/12 ,  G02B 6/13
FI (2件)：
G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 M
Fターム (6件)：
2H047KA04 ,  2H047PA02 ,  2H047PA21 ,  2H047PA28 ,  2H047QA04 ,  2H047QA05
引用特許：
出願人引用 (9件)
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