特許
J-GLOBAL ID：200903087542121851

加工物にパターンを形成するための方法及び装置

発明者：
サンドストレム、トルビエルン

サンドストレム、トルビエルン について


出願人/特許権者：
マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット

マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット について


代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  岩本 行夫 ,  吉田 裕
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-553341
公開番号（公開出願番号）：特表2005-513770
出願日： 2002年12月11日
公開日（公表日）： 2005年05月12日
要約：
本発明は、電磁放射に感受性のある加工物上にパターンを形成するための方法に関する。電磁放射は、多数の変調素子(ピクセル)を有するコンピュータ制御のレチクルに向けて放出される。ピクセルは、前記コンピュータ制御のレチクル中に、デジタル記述に基づいて配置される。前記コンピュータ制御のレチクルの像が、前記加工物上に形成され、より小さなアドレス・グリッドを生成するために、前記コンピュータ制御のレチクル中の前記ピクセルは、1つのフィーチャ・エッジの少なくとも1部分に沿って、交互状態に配置される。本発明はまた、加工物上にパターンを形成するための装置にも関する。本発明はまた、半導体ウェーハ及びマスクにも関する。
請求項（抜粋）：
改良仮想グリッドを用いて電磁放射に感受性のある加工物上にパターンを形成するための方法であって、 多数の変調素子(ピクセル)を有するコンピュータ制御のレチクルに向けて電磁放射を放出することと、 デジタル記述に基づいて前記コンピュータ制御のレチクル中に前記ピクセルを配置することと、 前記加工物上に前記コンピュータ制御のレチクルの像を形成するステップであって、より小さなアドレス・グリッドを生成するために、前記コンピュータ制御のレチクル中の前記ピクセルが、1つのフィーチャ・エッジの少なくとも1部分に沿って、交互状態に配置されることとを含む方法。
IPC (6件)：
H01L21/027 ,  G03F1/08 ,  G03F7/20 ,  H04N1/036 ,  H04N1/04 ,  H04N1/17
FI (9件)：
H01L21/30 529 ,  G03F1/08 B ,  G03F7/20 521 ,  H04N1/036 Z ,  H04N1/04 105 ,  H04N1/17 B ,  H01L21/30 515F ,  H01L21/30 516D ,  H01L21/30 541J
Fターム (36件)：
2H095BB02 ,  2H095BB06 ,  2H095BB36 ,  2H095BC09 ,  5C051AA02 ,  5C051CA07 ,  5C051DB02 ,  5C051DB22 ,  5C051DB26 ,  5C051DB30 ,  5C051DC04 ,  5C051DC05 ,  5C051DC07 ,  5C051DE05 ,  5C051DE26 ,  5C072AA03 ,  5C072BA16 ,  5C072CA06 ,  5C072DA02 ,  5C072DA19 ,  5C072DA23 ,  5C072HA02 ,  5C072HB06 ,  5C072UA16 ,  5F046AA25 ,  5F046BA03 ,  5F046BA07 ,  5F046CA04 ,  5F046CB18 ,  5F046DA02 ,  5F046DA06 ,  5F046DD03 ,  5F046DD06 ,  5F056AA01 ,  5F056CA05 ,  5F056CC11
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (8件)
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