特許
J-GLOBAL ID:200903087897751660
基板除電方法及び基板処理装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小野 由己男 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-185859
公開番号(公開出願番号):特開2000-021726
出願日: 1998年07月01日
公開日(公表日): 2000年01月21日
要約:
【要約】【課題】 軟X線照射除電装置を使った場合にも基板処理に不具合が起こらないような基板除電方法を提供することにある。【解決手段】 基板除電方法は、処理部と軟X線イオナイザ101とを備えた基板処理装置における基板除電方法であって、軟X線が基板Wに所定時間以上照射されないように制御しながら基板Wを除電する方法である。処理部では、連続して基板Wに処理を施す。軟X線イオナイザ142は、処理部にある基板Wに軟X線を照射して基板Wの除電を行う。
請求項(抜粋):
連続して基板に処理を施す処理部と前記処理部にある基板に軟X線を照射する軟X線照射除電装置とを備えた基板処理装置における基板除電方法であって、軟X線が基板に所定時間以上照射されないように制御しながら基板を除電する基板除電方法。
IPC (4件):
H01L 21/027
, G02F 1/13 101
, G03F 7/20 503
, G21K 5/02
FI (4件):
H01L 21/30 503 G
, G02F 1/13 101
, G03F 7/20 503
, G21K 5/02 X
Fターム (15件):
2H088FA18
, 2H088FA30
, 2H088HA01
, 2H088MA20
, 2H097BA02
, 2H097BA04
, 2H097BA06
, 2H097BB01
, 2H097CA15
, 2H097LA10
, 2H097LA12
, 5F046AA08
, 5F046AA28
, 5F046DA30
, 5F046JA25
引用特許:
審査官引用 (6件)
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薄膜塗布装置および方法、並びに液晶表示素子の製造法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-226495
出願人:チッソ株式会社, 株式会社飯沼ゲージ製作所, 浜松ホトニクス株式会社
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基板の洗浄乾燥装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-183579
出願人:株式会社飯沼ゲージ製作所, 浜松ホトニクス株式会社
-
液晶配向処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-091783
出願人:株式会社飯沼ゲージ製作所, 浜松ホトニクス株式会社
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基板ベーキング装置及び基板ベーキング方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-119108
出願人:シグマメルテック株式会社, 株式会社東芝
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静電気除去方法及びその装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-024488
出願人:財団法人半導体研究振興会
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処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-120737
出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
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