特許
J-GLOBAL ID：200903088016742937

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

発明者：
佐藤 健一郎

佐藤 健一郎 について

, 
児玉 邦彦

児玉 邦彦 について

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青合 利明

青合 利明 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-158693
公開番号（公開出願番号）：特開2000-347408
出願日： 1999年06月04日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 250nm以下、特に220nm以下の露光光源の使用時に、現像欠陥やスカムの発生が軽減され、且つ疎密依存性が改良されたポジ型感光性組成物の提供。【解決手段】 活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、下記一般式(BI)の多環型の脂環式基を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基とを有する樹脂、及び酸の作用で分解し、スルホン酸を発生する化合物を含有する遠紫外線露光用ポジ型感光性組成物。式中Rb1は、水素原子、ハロゲン原子又は1〜4個の炭素原子を有する直鎖もしくは分岐のアルキル基を、Rb2〜Rb4は、水素原子又は水酸基を表す。
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)下記一般式(BI)で表される繰り返し単位を有し、かつ酸の作用により分解し、アルカリに対する溶解性が増大する樹脂、及び(C)酸の作用により分解し、スルホン酸を発生する化合物を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式(BI)中:Rb1は、水素原子、ハロゲン原子又は1〜4個の炭素原子を有する直鎖もしくは分岐のアルキル基を表す。Rb2〜Rb4は、各々独立に、水素原子又は水酸基を表す。ただし、Rb2〜Rb4のうち少なくとも1つは、水酸基を表す。
IPC (6件)：
G03F 7/039 601 ,  C08L 33/04 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
G03F 7/039 601 ,  C08L 33/04 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (51件)：
2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC07 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB52 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H097CA13 ,  2H097CA15 ,  2H097CA16 ,  2H097CA17 ,  2H097FA03 ,  2H097JA03 ,  2H097LA10 ,  4J002BE041 ,  4J002BF011 ,  4J002BG011 ,  4J002BG041 ,  4J002BG051 ,  4J002BG081 ,  4J002BG091 ,  4J002BG131 ,  4J002BH021 ,  4J002BQ001 ,  4J002DG016 ,  4J002EB106 ,  4J002EN048 ,  4J002EU036 ,  4J002EU048 ,  4J002EU088 ,  4J002EU118 ,  4J002EU128 ,  4J002EU138 ,  4J002EU186 ,  4J002EU188 ,  4J002EU216 ,  4J002EU238 ,  4J002EV036 ,  4J002EV216 ,  4J002EV236 ,  4J002EV306 ,  4J002FD156 ,  4J002FD312 ,  4J002FD317 ,  4J002GP03
引用特許：
審査官引用 (6件)
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