特許
J-GLOBAL ID：200903044187260186
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-082855
公開番号（公開出願番号）：特開平10-326014
出願日： 1997年04月01日
公開日（公表日）： 1998年12月08日
要約：
【要約】【課題】 特に170nm〜220nmという波長領域の遠紫外線に対して十分好適であり、かつ光に対して高感度で、得られるレジストパターンプロファイルが優れ、且つ経時保存安定性が優れた遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある。【解決手段】 特定の酸分解性基を有する単量体を繰り返し構造単位として含有し、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び塩基性低分子化合物を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
下記一般式〔I〕で表される単量体を繰り返し構造単位として含有し、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び塩基性低分子化合物を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】(式中、R1 は水素原子又はメチル基を表す。R2 はアルキル基、環状アルキル基、又は置換アルキル基を表す。R3 、R4 は、同じでも異なっていてもよく、水素原子又はアルキル基を表す。Aは、単結合、アルキレン基、置換アルキレン基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、スルフォンアミド基、ウレタン基、ウレア基の中から選ばれる1つの基もしくはそれら2つ以上を組み合わせた基を表す。)
IPC (3件)：
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, H01L 21/30 502 R
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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