特許
J-GLOBAL ID：200903088017894234

ラクトン添加剤を含むレジスト組成物

発明者：
イトウ・ヒロシ

イトウ・ヒロシ について

, 
プシュカラ・ラオ・ヴァラナシ

プシュカラ・ラオ・ヴァラナシ について


出願人/特許権者：
インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション

インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション について


代理人 (1件)： 坂口 博 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-238985
公開番号（公開出願番号）：特開2002-062640
出願日： 2001年08月07日
公開日（公表日）： 2002年02月28日
要約：
【要約】【課題】 193nmの放射でイメージングし、これを現像して、高解像度および耐エッチング性に優れたレジスト構造を形成するレジスト組成物を提供する。【解決手段】 本発明の酸触媒型ポジ型レジスト組成物は、(a)環状オレフィン、アクリラートおよびメタクリラートから成るグループから選択された単量体を含むイメージング・ポリマー、(b)放射感受性酸発生剤、ならびに(c)ラクトン添加剤、の組合せを含む。ラクトン添加剤は少なくとも10個の炭素原子を含むことが好ましく、少なくとも1つの飽和脂環部分を含むことがより好ましい。イメージング・ポリマーは環状オレフィン・ポリマーであることが好ましい。
請求項（抜粋）：
(a)環状オレフィン、アクリラートおよびメタクリラートから成るグループから選択された単量体を含んで成るイメージング・ポリマーと、(b)放射感受性酸発生剤と、(c)ラクトン添加剤とを含むレジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/004 501 ,  C08F232/08 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F 7/004 501 ,  C08F232/08 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (31件)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB42 ,  2H025CB43 ,  2H025CC20 ,  2H025DA18 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H025FA39 ,  4J100AR09P ,  4J100AR09Q ,  4J100AR11P ,  4J100AR11Q ,  4J100BA16Q ,  4J100BA20P ,  4J100BD10P ,  4J100BD10Q ,  4J100CA04 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (10件)
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