特許
J-GLOBAL ID：200903088031349095

好気濾床槽及び汚水浄化槽

発明者：
日比野 淳

日比野 淳 について

, 
片貝 信義

片貝 信義 について


出願人/特許権者：
日立化成工業株式会社

日立化成工業株式会社 について


代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-067118
公開番号（公開出願番号）：特開2001-246392
出願日： 2000年03月07日
公開日（公表日）： 2001年09月11日
要約：
【要約】【解決手段】上段及び下段の二室に区画し、その上段生物反応室6には、充填材(接触材)が固定的に充填されて固定床が形成され、下段濾過室7には、流動可能な充填材(濾材)が充填されて半固定床が形成され、その半固定床においては、通常の排水処理中は固定床が、また、濾材洗浄中は流動床が形成される構造の好気濾床槽。生物反応室6の下部又は下方に散気部材8、濾過室7の下部又は下方には洗浄用散気部材9をそれぞれ配置し、通常の排水処理中は散気部材8から散気し、濾材洗浄中は洗浄用散気部材9から散気する。【効果】汚水は効果的に安定して処理される上、上段生物反応室の充填材(接触材)の充填作業や交換作業は容易である。
請求項（抜粋）：
上段が生物反応室、下段が濾過室に区画されている好気濾床槽であって、前記生物反応室には、充填材が固定的に充填されて固定床が形成され、前記濾過室には、流動可能な充填材が充填されて半固定床が形成され、前記半固定床においては、通常の排水処理中は固定床が形成され、濾過室の洗浄中は流動床が形成される、好気濾床槽。
IPC (2件)：
C02F 3/00 ZAB ,  C02F 3/00
FI (2件)：
C02F 3/00 ZAB E ,  C02F 3/00 B
Fターム (4件)：
4D027AB07 ,  4D027AB11 ,  4D027AB14 ,  4D027AB16
引用特許：
審査官引用 (19件)
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