特許
J-GLOBAL ID：200903088083094915
ガス噴射式はんだ付け方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
林 宏 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-066595
公開番号（公開出願番号）：特開2001-252762
出願日： 2000年03月10日
公開日（公表日）： 2001年09月18日
要約：
【要約】【課題】 還元性ガスとはんだ鏝とを使用して高品質のはんだ付けを安全に行うことができるようにする。【解決手段】 還元性ガスと不活性ガスとを混合器17で均一に混合したあと、ヒーター18で加熱することにより昇温及び除湿乾燥したホット混合ガスとし、この混合ガスをはんだ鏝3に設けた噴射口14からはんだ付け対象に向けて噴射することにより、該混合ガス6の雰囲気内において上記はんだ鏝3ではんだ5を加熱溶融させてはんだ付けをする。
請求項（抜粋）：
ガス供給源から別々に供給される還元性ガスと不活性ガスとを混合器において所定の比率で均一に混合したあと、ヒーターで加熱することにより昇温及び除湿乾燥したホット混合ガスとし、このホット混合ガスをはんだ鏝に設けた噴射口からはんだ付け対象に向けて噴射することにより、該混合ガス中の不活性ガスではんだ付け対象の酸化を防止すると共に還元性ガスで酸化被膜を還元しながら、該混合ガスの雰囲気内において上記はんだ鏝ではんだを加熱溶融させてはんだ付けすることを特徴とするガス噴射式はんだ付け方法。
IPC (6件)：
B23K 3/02
, B23K 1/005
, B23K 3/06
, B23K 31/02 310
, H05K 3/34 507
, B23K101:42
B23K 3/02 E
, B23K 1/005 A
, B23K 3/06 K
, B23K 31/02 310 B
, H05K 3/34 507 G
, B23K101:42
5E319AA03
, 5E319AA07
, 5E319AA09
, 5E319AB01
, 5E319CC49
