特許
J-GLOBAL ID：200903088329165000

フォトレジスト用高分子化合物の製造方法及びフォトレジスト組成物

発明者：
堤 聖晴

堤 聖晴 について


出願人/特許権者：
ダイセル化学工業株式会社

ダイセル化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 後藤 幸久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-100456
公開番号（公開出願番号）：特開2006-282686
出願日： 2005年03月31日
公開日（公表日）： 2006年10月19日
要約：
【課題】 残存モノマー含有量の極めて少ないフォトレジスト用高分子化合物を簡易な手段で効率よく得る。【解決手段】 本発明のフォトレジスト用高分子化合物の製造方法は、酸によりアルカリ可溶となる基を有する単量体と、極性基含有脂環式骨格を含む基を有する単量体とを少なくとも含む単量体混合物を、滴下重合法により重合させる重合工程と、重合工程終了後にラジカル発生剤を添加して残存モノマーを減少させる後工程とを含む。後工程の後、重合で生成したポリマーを含む溶液を水洗に付す水洗工程をさらに含んでいてもよい。重合工程において、単量体混合物を含む単量体溶液と重合開始剤を含む重合開始剤溶液とを独立に、重合温度に昇温された溶媒中に滴下してもよい。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
酸によりアルカリ可溶となる基を有する単量体と、極性基含有脂環式骨格を含む基を有する単量体とを少なくとも含む単量体混合物を、滴下重合法により重合させる重合工程と、重合工程終了後にラジカル発生剤を添加して残存モノマーを減少させる後工程とを含むフォトレジスト用高分子化合物の製造方法。
IPC (5件)：
C08F 2/06 ,  C08F 2/00 ,  C08F 6/06 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039
FI (5件)：
C08F2/06 ,  C08F2/00 A ,  C08F6/06 ,  G03F7/033 ,  G03F7/039 601
Fターム (37件)：
2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4J011BB01 ,  4J011BB02 ,  4J011BB09 ,  4J011BB12 ,  4J011HA03 ,  4J011HB06 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA04P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA20P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100GB01 ,  4J100GC35 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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