特許
J-GLOBAL ID:200903089243146549

エアロゾルデポジション装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 青木 篤 ,  鶴田 準一 ,  西山 雅也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-106104
公開番号(公開出願番号):特開2005-290462
出願日: 2004年03月31日
公開日(公表日): 2005年10月20日
要約:
【課題】 エアロゾルデポジション装置に関し、安定したエアロゾルの濃度を維持しつつ成膜を行うことのできるエアロゾルデポジション装置を提供することを目的とする。【解決手段】 エアロゾルデポジション装置は、ガス供給手段と、該ガス供給手段に接続され、微粒子が入っていて微粒子がガスに分散したエアロゾルを形成する容器14と、該容器に接続され、エアロゾルを基板に向かって噴出するノズル16を有するチャンバ18と、エアロゾルをイオン化する手段66と、基板36にエアロゾルのイオンとは反対符号のバイアス電圧をかける手段68とを備えた構成とする。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
ガス供給手段と、該ガス供給手段に接続され、微粒子が入っていて微粒子がガスに分散したエアロゾルを形成する容器と、該容器に接続され、エアロゾルを基板に向かって噴出するノズルを有するチャンバと、エアロゾルをイオン化する手段と、基板にエアロゾルのイオンとは反対符号のバイアス電圧をかける手段とを備えたことを特徴とするエアロゾルデポジション装置。
IPC (1件):
C23C24/02
FI (1件):
C23C24/02
Fターム (6件):
4K044BA12 ,  4K044CA21 ,  4K044CA23 ,  4K044CA55 ,  4K044CA57 ,  4K044CA71
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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