特許
J-GLOBAL ID:200903089415310273

測定装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高梨 幸雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-204233
公開番号(公開出願番号):特開2004-045267
出願日: 2002年07月12日
公開日(公表日): 2004年02月12日
要約:
【課題】光源からの放射強度やビームサイズそしてビーム強度分布等が変化しても光学素子の光学特性を高精度に測定することができる測定装置を得ること。【解決手段】入射される光束を複数の光束に回折し、このうち0次回折光を試料に導光し、n次回折光(nは0以外の整数)を参照光検出用の光検出器に導光する回折格子を含むビーム強度モニタを用いて該試料の特性を測定すること。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
入射される光束を複数の光束に回折し、このうち0次回折光を試料に導光し、n次回折光(nは0以外の整数)を参照光検出用の光検出器に導光する回折格子を含むビーム強度モニタを用いて該試料の特性を測定することを特徴とする測定装置。
IPC (1件):
G01N23/20
FI (1件):
G01N23/20
Fターム (19件):
2G001AA01 ,  2G001BA08 ,  2G001BA15 ,  2G001CA01 ,  2G001DA01 ,  2G001DA02 ,  2G001DA06 ,  2G001DA09 ,  2G001EA01 ,  2G001EA09 ,  2G001EA20 ,  2G001FA04 ,  2G001FA08 ,  2G001GA01 ,  2G001GA03 ,  2G001GA13 ,  2G001KA20 ,  2G001LA20 ,  2G001PA07
引用特許:
審査官引用 (10件)
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