特許
J-GLOBAL ID：200903089571867130
光強度シミュレーション方法及びフォトマスクの設計方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-224038
公開番号（公開出願番号）：特開2004-062096
出願日： 2002年07月31日
公開日（公表日）： 2004年02月26日
要約：
【課題】ローカルフレアを考慮して高い精度を確保することができる光強度シミュレーション方法及びフォトマスクの設計方法を提供する。【解決手段】開口パターンP1の重心G1との距離R1、開口パターンP2の重心G2との距離R2、面積S1及びS2、並びに透過率T1及びT2に基づいて、フォトマスク上の光強度計算点Bにおける光強度F2を近似的に求める。次に、フォトマスク上の各光強度計算点について、ローカルフレアの影響による光強度F2を求める。その後、この結果を従来のローカルフレアの影響を考慮していないシミュレーションにより得られた光強度Iの分布に足し合わせる。このような方法によれば、高い精度の光強度のシミュレーションを容易に行うことができる。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
フォトマスクを透過する光の強度をシミュレーションにより算出する方法において、
前記フォトマスク上の各光強度計算点について、投影レンズの瞳面上の収差により生ずるローカルフレアによる影響を要因の一つに含めて光強度の計算を行うことを特徴とする光強度シミュレーション方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 A
, H01L21/30 502P
