特許
J-GLOBAL ID:200903089951322640
X線分析装置およびこれに用いるX線導管
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
藤本 英夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-213928
公開番号(公開出願番号):特開2003-028815
出願日: 2001年07月13日
公開日(公表日): 2003年01月29日
要約:
【要約】【課題】 試料におけるX線照射位置または照射エリアを迅速かつ正確に確認することができ、効率よく測定を行うことができるX線分析装置およびこれに用いるX線導管を提供すること。【解決手段】 X線源4からのX線aを絞って試料2に照射するようにしたX線分析装置において、前記X線源4と試料2との間に、X線aは挿通させるが可視光線eは反射する可視光ミラー9と、X線aをガイドするX線ガイド部14の周囲に可視光線eを通過させる可視光ガイド部15が形成されたX線導管10とを設け、前記試料2に可視光線dを照射したときにおける前記可視光ガイド部15および可視光ミラー9を経て得られる試料の光学像24に基づいてX線aの試料2に対する照射位置または領域を確認できるようにしている
請求項(抜粋):
X線源からのX線を試料に照射するようにしたX線分析装置において、前記X線源と試料との間に、X線は挿通させるが可視光線は反射する可視光ミラーと、X線をガイドするX線ガイド部の周囲に可視光線を通過させる可視光ガイド部が形成されたX線導管とを設け、前記試料に可視光線を照射したときにおける前記可視光ガイド部および可視光ミラーを経て得られる試料の光学像に基づいて、試料に対するX線の照射位置または照射領域を確認できるようにしたことを特徴とするX線分析装置。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (14件):
2G001AA01
, 2G001AA07
, 2G001BA04
, 2G001BA11
, 2G001CA01
, 2G001DA01
, 2G001DA02
, 2G001DA06
, 2G001GA04
, 2G001HA13
, 2G001KA01
, 2G001SA01
, 2G001SA02
, 2G001SA04
引用特許:
審査官引用 (11件)
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X線分析装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-259395
出願人:株式会社テクノス研究所
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特開昭57-197454
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X線コリメータ及びX線放射装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-334975
出願人:トヨタ自動車株式会社
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マイクロ蛍光X線分析装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-149280
出願人:セイコーインスツルメンツ株式会社
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蛍光X線分析装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-073852
出願人:セイコーインスツルメンツ株式会社
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特開平4-213047
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X線発生装置及びそれを用いたX線装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-238589
出願人:理学電機株式会社
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特開昭60-256036
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特開昭53-004433
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特開昭60-253956
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蛍光X線膜厚計
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-047017
出願人:セイコー電子工業株式会社
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