多孔性シリカ膜、それを有する積層体

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-185551
公開番号（公開出願番号）：特開2005-015309
出願日： 2003年06月27日
公開日（公表日）： 2005年01月20日
要約：

【課題】高い光透過性能と低反射性能を有する多孔性シリカ膜、およびそれを有する積層体を提供する。これらは光学用途として利用できる。【解決手段】表面における十点表面粗さ(Rz)が、10〜500nmであり、かつ有する空孔径が0.5〜100nmであることを特徴とする多孔質膜シリカ膜。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

表面における十点表面粗さ(Rz)が、10〜500nmであり、かつ有する空孔径が0.5〜100nmであることを特徴とする多孔性シリカ膜。

IPC (4件)：

C01B33/12 , B32B5/18 , B32B9/00 , B60J1/00

FI (4件)：

C01B33/12 C , B32B5/18 , B32B9/00 A , B60J1/00 H

Fターム (35件)：

4F100AA20A , 4F100AG00 , 4F100AT00B , 4F100BA02 , 4F100DJ00A , 4F100GB41 , 4F100JG10B , 4F100JK14A , 4F100JN01B , 4F100JN30 , 4F100YY00A , 4G059AA08 , 4G059AC01 , 4G059AC02 , 4G059AC04 , 4G059CA01 , 4G059CB05 , 4G072AA25 , 4G072BB09 , 4G072BB10 , 4G072FF01 , 4G072GG01 , 4G072GG02 , 4G072GG03 , 4G072HH30 , 4G072KK03 , 4G072MM01 , 4G072MM21 , 4G072MM31 , 4G072NN21 , 4G072RR05 , 4G072RR12 , 4G072TT08 , 4G072TT30 , 4G072UU01

引用特許：

審査官引用 (10件)

多孔性シリカ薄膜
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-300719 出願人：旭化成株式会社
絶縁薄膜用の多孔性シリカ薄膜
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-374711 出願人：旭化成株式会社
特開平4-285081

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