特許
J-GLOBAL ID:200903090791940731
照明及びレチクルの最適化により、印刷ラインの形状歪みを最小化するシステム及び方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-221242
公開番号(公開出願番号):特開2006-332703
出願日: 2006年08月14日
公開日(公表日): 2006年12月07日
要約:
【課題】レチクルに入射する各方向の軸外ビームの強度を最適に選択する。【解決手段】ウエハ上に形成されるべきイメージの目的パターンの情報を提供するステップ500と、目的パターンの情報にしたがって、レチクルからの光を前記ウエハ上に投影するレンズの瞳内にレチクルから生じる各回折次数の回折光のうち回折次数の同一セットを導く軸外ビームの方向の範囲毎に該方向を区分することにより、各方向の軸外ビームの強度を表す変数を選択するステップと、各方向の軸外ビームの強度を表す変数を含む、ウエハ上で得られるイメージを表す関数を提供するステップと、各方向の軸外ビームの強度と、前記関数により表されるイメージの特性との関係を示すメリット関数を提供するステップ510と、メリット関数の値を最適化する、各方向の軸外ビームの強度の解を求めるステップ550とを含む。【選択図】図8
請求項(抜粋):
半導体ウエハ上にイメージを形成するための、レチクルに入射する各方向の軸外ビームの強度、を選択する方法であって、
前記ウエハ上に形成されるべきイメージの目的パターンの情報を提供するステップと、
前記目的パターンの情報にしたがって、レチクルからの光を前記ウエハ上に投影するレンズの瞳内に前記レチクルから生じる各回折次数の回折光のうち回折次数の同一セットを導く軸外ビームの方向の範囲毎に該方向を区分することにより、前記各方向の軸外ビームの強度を表す変数を選択するステップと、
前記各方向の軸外ビームの強度を表す変数を含む、前記ウエハ上で得られるイメージを表す関数を提供するステップと、
前記各方向の軸外ビームの強度と、前記関数により表されるイメージの特性との関係を示すメリット関数を提供するステップと、
前記メリット関数の値を最適化する、前記各方向の軸外ビームの強度の解を求めるステップと、
を含む、方法。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L21/30 516C
, G03F7/20 521
Fターム (6件):
5F046BA03
, 5F046CB17
, 5F046CB23
, 5F046DA01
, 5F046DD03
, 5F046DD06
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (3件)
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