特許
J-GLOBAL ID:200903090862190674

窒化物半導体レーザ素子

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-067632
公開番号(公開出願番号):特開平9-260772
出願日: 1996年03月25日
公開日(公表日): 1997年10月03日
要約:
【要約】【目的】 窒化物半導体よりなるレーザ素子の閾値電流を小さくして、室温で連続発振可能な素子を実現する。【構成】 基板上部に形成されたInGaNを含む活性層と、活性層上に形成されたリッジ形状のストライプを有するn型若しくはp型のクラッド層とを有することにより、リッジの下の活性層に光を集中させて、レーザ素子の閾値電流を低下させる。
請求項(抜粋):
基板上部に形成された活性層と、活性層上に形成されたリッジ形状のストライプを有するn型若しくはp型のクラッド層とを有することを特徴とする窒化物半導体レーザ素子。
引用特許:
審査官引用 (6件)
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