特許
J-GLOBAL ID：200903090958579300

基板処理装置および基板処理方法

発明者：
基村 雅洋

基村 雅洋 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-095694
公開番号（公開出願番号）：特開2003-297794
出願日： 2002年03月29日
公開日（公表日）： 2003年10月17日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 ウォーターマークを発生させることなく、しかも乾燥処理に要するコストの上昇を抑制することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。【解決手段】 洗浄処理の終了した基板Wを、ローター30に保持して回転させながら、乾燥剤吐出ノズル50からフッ素系溶剤であるHFE(ハイドロフルオロエーテル)を供給することにより、基板W上の純水は、回転による遠心力によって振り切られ、HFEは基板W上に形成された微細パターン内部に入り込んだ水滴とともに速やかに蒸発する。そのため、微細パターン内部の乾燥不良を抑制しつつ、乾燥性能を向上させることができる。
請求項（抜粋）：
処理液による洗浄処理が終了した基板の乾燥処理を行う基板処理装置であって、基板を保持する保持手段と、前記保持手段に保持された基板を回転する回転手段と、前記回転手段を用いて基板を回転させつつ、処理液が付着した基板にフッ素系溶剤を主剤とする乾燥剤を供給する溶剤供給手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (6件)：
H01L 21/304 651 ,  F26B 3/04 ,  F26B 5/08 ,  F26B 7/00 ,  F26B 9/06 ,  F26B 21/14
FI (6件)：
H01L 21/304 651 B ,  F26B 3/04 ,  F26B 5/08 ,  F26B 7/00 ,  F26B 9/06 A ,  F26B 21/14
Fターム (17件)：
3L113AA06 ,  3L113AB02 ,  3L113AB08 ,  3L113AC26 ,  3L113AC28 ,  3L113AC35 ,  3L113AC45 ,  3L113AC46 ,  3L113AC48 ,  3L113AC63 ,  3L113AC67 ,  3L113BA34 ,  3L113DA06 ,  3L113DA10 ,  3L113DA11 ,  3L113DA24 ,  3L113DA26
引用特許：
審査官引用 (6件)
  • 洗浄乾燥装置および洗浄乾燥方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-147200   出願人：松下電器産業株式会社
  • 基板乾燥装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-063678   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-334539   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
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