特許
J-GLOBAL ID：200903090962174536
極端紫外線露光用マスクブランク及び極端紫外線露光用マスク並びにパターン転写方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-096188
公開番号（公開出願番号）：特開2007-273651
出願日： 2006年03月31日
公開日（公表日）： 2007年10月18日
要約：
【課題】DUV光による欠陥検査能力を向上するために、多層膜にキャッピング膜及び緩衝膜を積層した積層体と吸収膜欠陥のコントラストを確保できるようにしたEUV露光用マスクを提供する。【解決手段】EUV露光用マスクは、基板上に多層膜とキャッピング膜と緩衝膜を積層し、さらにその上から吸収膜を積層している。多層膜から吸収膜までの積層体の反射率は、波長190nmから260nmの紫外線領域において6.7%乃至20%以下であり、かつ吸収膜の屈折率はキャッピング膜に向かって次第に大きくなるように成膜されている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板上に形成された多層膜からなる高反射部と、前記多層膜を保護するキャッピング膜と、前記キャッピング膜上に緩衝膜を介して形成された吸収膜からなる低反射部とを具備する極端紫外線露光用マスクブランクにおいて、波長190nmから260nmの紫外線領域における前記高反射部と前記キャッピング膜と前記緩衝膜と前期吸収膜を含む部分の反射率が、0%よりも大きく、その上限値が前記高反射部の反射率に応じて6.7乃至20%であることを特徴とする極端紫外線露光用マスクブランク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 531M
, G03F1/16 A
2H095BA10
, 2H095BB25
, 2H095BC20
, 2H095BC27
, 2H095BD04
, 2H095BD35
, 5F046GD01
, 5F046GD02
, 5F046GD03
, 5F046GD07
, 5F046GD10
, 5F046GD11
出願人引用 (1件)
審査官引用 (5件)
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