特許
J-GLOBAL ID：200903091069099727
プラズマ装置用電極の製造方法及びプラズマ装置用電極
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-275331
公開番号（公開出願番号）：特開平11-092972
出願日： 1997年09月22日
公開日（公表日）： 1999年04月06日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 本発明は、プラズマ装置用電極にガス通過用の多数の微細穴を形成するにあたり、低コストで効率的に加工出来、また電極として使用時に、品質の良いデバイスの作製が可能な電極の提供を目的とする。【解決手段】 電極板1に多数の微細穴a、...を形成するにあたり、当初、放電加工又はレーザー加工で3mm/min以上の加工速度で直径0.1〜1.0mmの下穴を形成した後、下穴をダイヤ加工で3mm/minより低い加工速度で下穴直径プラス0.005〜0.2mmの範囲で加工し、微細穴aに仕上げる。ここで、電極板1素材としてシリコン、カーボン、アルミニウム、炭化珪素が好ましく、また微細穴a、...の数は150〜6000穴が好ましく、抵抗値は1Ωcm以下が好ましい。
請求項（抜粋）：
反応ガス通過用の多数の微細穴を有するプラズマ装置用電極の製造方法において、電極素材の所定箇所に、前記微細穴より径の小さい多数の下穴を所定速度以上の高速加工速度で穿設した後、この下穴の周縁を所定速度より低い低速加工速度で加工して前記下穴を前記微細穴に仕上げることを特徴とするプラズマ装置用電極の製造方法。
IPC (5件)：
C23F 4/00
, B23B 35/00
, B23H 1/06
, B23K 26/00 330
, H01L 21/3065
C23F 4/00 A
, B23B 35/00
, B23H 1/06
, B23K 26/00 330
, H01L 21/302 B
