特許
J-GLOBAL ID:200903091305036235
有機EL素子の製造方法及び有機EL素子
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
目次 誠
, 宮▲崎▼主税
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-252752
公開番号(公開出願番号):特開2007-066775
出願日: 2005年08月31日
公開日(公表日): 2007年03月15日
要約:
【課題】 静電チャックを用いて有機EL素子基板を保持し、封止基板と貼り合わせる有機EL素子の製造方法において、有機EL素子基板に組み込まれた駆動回路が静電チャックからの静電気により劣化するのを防止する。 【解決手段】 基板1の第2主面1b上に、または、第1主面1aと駆動回路2との間に、駆動回路2が静電チャックからの静電気により劣化するのを防止するための導電層11を設けることを特徴としている有機EL素子の製造方法。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基板の第1主面上にアクティブマトリクス駆動回路を設け、その上に有機EL素子構造を設けて有機EL素子基板を作製する工程と、
減圧チャンバー内で、前記有機EL素子基板の前記第1主面と反対側の第2主面を静電チャックで保持し、接着剤が塗布された封止基板に前記有機EL素子基板を押し当てて、前記有機EL素子構造の上に接着剤層を介して前記封止基板を貼り合わせる工程とを備える有機EL素子の製造方法であって、
前記有機EL素子基板として、前記基板の第2主面上に、または前記第1主面と前記駆動回路の間に、前記駆動回路が前記静電チャックからの静電気により劣化するのを防止するための導電層が設けられた有機EL素子基板を用いることを特徴とする有機EL素子の製造方法。
IPC (4件):
H05B 33/10
, H05B 33/02
, H05B 33/04
, H01L 51/50
FI (4件):
H05B33/10
, H05B33/02
, H05B33/04
, H05B33/14 A
Fターム (5件):
3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007BB01
, 3K007DB03
, 3K007FA02
引用特許:
出願人引用 (3件)
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有機EL素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-359134
出願人:パイオニアビデオ株式会社, パイオニア株式会社
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特許第3650101号公報
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表示装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-069210
出願人:株式会社東芝
審査官引用 (7件)
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