特許
J-GLOBAL ID：200903092202640696

X線発生装置

発明者：
浮田 昌昭

浮田 昌昭 について


出願人/特許権者：
株式会社島津製作所

株式会社島津製作所 について


代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-092076
公開番号（公開出願番号）：特開2005-276760
出願日： 2004年03月26日
公開日（公表日）： 2005年10月06日
要約：
【課題】 電子ビーム衝突点付近の表面温度を低下させることにより、ターゲットの長寿命化を図って装置の稼働率を高め、連続したX線の発生時間を長したり、強いX線を発生させられるX線発生装置を提供する。【解決手段】 ターゲットの表面に放熱層を備える。具体的には、開口21が形成された表面固体部20を、ターゲット部18の表面に密着した状態で設ける。すると、開口21を通過する電子ビームBが衝突して発生したターゲット表面付近の熱は、熱伝導により表面固体部20を介して速やかに分散される。このような放熱層を設けた本発明では、電子ビームBの衝突するターゲット部18の表面の温度が低下し、ターゲット材料が蒸発するのを低減することができるので、連続したX線発生時間を長くできる。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
ターゲットに対して電子ビームを照射してX線を発生させるX線発生装置において、電子ビームが照射される前記ターゲットの表面に接する放熱層を備えていることを特徴とするX線発生装置。
IPC (5件)：
H01J35/12 ,  G21K5/08 ,  H01J35/08 ,  H01J35/14 ,  H01J35/30
FI (6件)：
H01J35/12 ,  G21K5/08 C ,  G21K5/08 X ,  H01J35/08 F ,  H01J35/14 ,  H01J35/30
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (7件)
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