特許
J-GLOBAL ID：200903092397998697

成膜装置およびそのクリーニング方法

発明者：
久保 謙一

久保 謙一 について

, 
ブザン バンソン

ブザン バンソン について

, 
池田 恭子

池田 恭子 について

, 
吉川 秀樹

吉川 秀樹 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-050953
公開番号（公開出願番号）：特開2000-248363
出願日： 1999年02月26日
公開日（公表日）： 2000年09月12日
要約：
【要約】【課題】 気化器の目詰まりを有効に解消することが可能な成膜装置およびクリーニング方法を提供すること。【解決手段】 成膜対象としての半導体ウエハWを収容するチャンバーと、液体状または固体状の金属化合物を含む成膜原料をチャンバー1に向けて送出する成膜原料供給源21と、成膜原料供給源21から前記チャンバーへ成膜原料を供給する成膜原料供給路18,15と、成膜原料供給路18,15の途中に設けられ、液体状または固体状の金属化合物を気化させてチャンバー内にガス状の成膜原料を供給する気化器17と、クリーニング物質を前記気化器に供給するクリーニング物質供給系30と、チャンバー1内を排気する排気機構9,12とにより成膜装置が構成され、気化器17にクリーニング物質が導入されることにより気化器17がクリーニングされる。
請求項（抜粋）：
被処理体を収容するチャンバーと、液体状または固体状の金属化合物を含む成膜原料を前記チャンバーに向けて送出する成膜原料供給源と、前記成膜原料供給源から前記チャンバーへ成膜原料を供給する成膜原料供給路と、前記成膜原料供給路の途中に設けられ、前記液体状または固体状の金属化合物を気化させてチャンバー内にガス状の成膜原料を供給する気化器と、クリーニング物質を前記気化器に供給するクリーニング物質供給系と、前記チャンバー内を排気する排気手段とを具備することを特徴とする成膜装置。
Fターム (7件)：
4K030AA11 ,  4K030BA01 ,  4K030CA04 ,  4K030DA06 ,  4K030EA01 ,  4K030EA11 ,  4K030KA25
引用特許：
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM