特許
J-GLOBAL ID：200903092722655130

表面検査装置及び表面検査方法

発明者：
廣瀬 修

廣瀬 修 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 崇生 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-338049
公開番号（公開出願番号）：特開2002-148195
出願日： 2000年11月06日
公開日（公表日）： 2002年05月22日
要約：
【要約】【課題】 被検体を照明する明暗パターンの繰り返しピッチを適切な寸法に設定し、被検体に許容されうる曲面(凹凸分布)を表面欠陥として誤検出することなく、表面欠陥を簡便かつ確実に検出することのできる表面検査装置及び表面検査方法を提供すること。【解決手段】 所定の明暗パターンを被検体1に対して照明する照明装置2と、明暗パターンが照明された被検体1を撮像する撮像手段3と、撮像手段3により撮像された原画像の明暗パターンのゆがみと明部2aと暗部2bの明るさの変化の度合いを解析することにより、被検体1の表面欠陥を検出する画像解析装置4とを備えた表面検査装置であって、明暗パターンの繰り返しピッチが、想定される表面欠陥の平面寸法(最小幅)よりも小さい寸法に設定されている。
請求項（抜粋）：
所定の明暗パターンを被検体に対して照明する照明手段と、前記明暗パターンが照明された前記被検体を撮像する撮像手段と、前記撮像手段により撮像された原画像の前記明暗パターンのゆがみと明部と暗部の明るさの変化の度合いを解析することにより、前記被検体の表面欠陥を検出する画像解析手段とを備えた表面検査装置であって、前記明暗パターンの繰り返しピッチが、想定される前記表面欠陥の平面寸法よりも小さい寸法に設定されていることを特徴とする表面検査装置。
IPC (3件)：
G01N 21/88 ,  G01B 11/30 ,  G06T 1/00 300
FI (3件)：
G01N 21/88 J ,  G01B 11/30 A ,  G06T 1/00 300
Fターム (56件)：
2F065AA49 ,  2F065AA54 ,  2F065AA56 ,  2F065BB22 ,  2F065CC02 ,  2F065CC21 ,  2F065DD03 ,  2F065FF04 ,  2F065FF42 ,  2F065HH06 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL41 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ06 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ21 ,  2F065QQ32 ,  2F065SS13 ,  2F065UU08 ,  2G051AA37 ,  2G051AA41 ,  2G051AA42 ,  2G051AA84 ,  2G051AA89 ,  2G051AB02 ,  2G051AB07 ,  2G051AB12 ,  2G051BA00 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051EA08 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EC06 ,  2G051ED03 ,  2G051ED07 ,  2G051ED14 ,  2G051FA10 ,  5B057AA01 ,  5B057AA20 ,  5B057BA02 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CB08 ,  5B057CB12 ,  5B057CC02 ,  5B057DA03 ,  5B057DA07 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC02
引用特許：
審査官引用 (9件)
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