希土類酸化物溶射用粒子、溶射部材および耐食性部材

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小島隆司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-078211
公開番号（公開出願番号）：特開2002-348653
出願日： 2002年03月20日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
要約：

【要約】【課題】高融点の希土類酸化物を用いても密着性の高い溶射被膜を形成できるとともに、純度の高い希土類酸化物溶射用粒子を提供すること。【解決手段】平均粒径が3〜20μm、分散指数が0.4以下、アスペクト比が2以下である希土類酸化物溶射用粒子。

請求項（抜粋）：

平均粒径が3〜20μm、分散指数が0.4以下、アスペクト比が2以下であることを特徴とする希土類酸化物溶射用粒子。

IPC (3件)：

C23C 4/04 , C23C 4/10 , C04B 35/50

FI (3件)：

C23C 4/04 , C23C 4/10 , C04B 35/50

Fターム (9件)：

4K031AA08 , 4K031AB02 , 4K031AB09 , 4K031CB02 , 4K031CB17 , 4K031CB18 , 4K031CB42 , 4K031CB52 , 4K031DA04

引用特許：

審査官引用 (15件)

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