特許

J-GLOBAL ID：200903093041068683

位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びパターン転写方法

発明者： 吉川 博樹 ,  石原 俊信 ,  岡崎 智 ,  稲月 判臣 ,  佐賀 匡 ,  岡田 公宏 ,  岩片 政秀 ,  原口 崇 ,  福島 祐一
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社 ,  凸版印刷株式会社
代理人 (4件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-102219
公開番号（公開出願番号）：特開2005-284213
出願日： 2004年03月31日
公開日（公表日）： 2005年10月13日
要約：

【解決手段】 基板上に主として光吸収機能を有する膜を持ち、更にその上に1層以上の主として位相シフト機能を有する膜を有する多層型位相シフトマスクブランクであって、前記光吸収機能を有する膜が4A族に属する金属を有し、かつ該金属含量が該膜の下部より上部の方が高いことを特徴とするハーフトーン位相シフトマスクブランク。【効果】 本発明の位相シフトマスクブランクを用いて位相シフトマスクを加工する際、ドライエッチング工程において、ドライエッチング中に光吸収膜が容易に検出され、かつ基板との選択比が有利に取れるため、精度の高い加工が可能となる。またこれにより精度の高い透過率、位相シフト量を持ったマスクが得られることから、このマスクを使用したフォトリソグラフィーにおいて、より深い焦点深度を確保することが可能になる。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

基板上に主として光吸収機能を有する膜を持ち、更にその上に1層以上の主として位相シフト機能を有する膜を有する多層型位相シフトマスクブランクであって、前記光吸収機能を有する膜が4A族に属する金属元素を有し、かつ該金属元素含量が光吸収機能膜の下部より上部の方が高いことを特徴とするハーフトーン位相シフトマスクブランク。

IPC (2件)：

G03F1/08 ,  H01L21/027

FI (3件)：

G03F1/08 A ,  G03F1/08 L ,  H01L21/30 502P

Fターム (4件)：

2H095BB03 ,  2H095BC05 ,  2H095BC11 ,  2H095BC24

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開平4-136854号公報
  
• 位相シフトマスクおよびその製造方法ならびにその位相シフトマスクを用いた露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-285327   出願人：アルバック成膜株式会社, 三菱電機株式会社
• 位相シフトマスクおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-214002   出願人：大日本印刷株式会社, アルバック成膜株式会社, 三菱電機株式会社

審査官引用 (4件)

• ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス及びハーフトーン型位相シフトマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-054647   出願人：凸版印刷株式会社
• ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-361531   出願人：ホーヤ株式会社
• ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びそれを用いたハーフトーン型位相シフトマスク、並びにパターン転写法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-244746   出願人：凸版印刷株式会社
• ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-101754   出願人：ホーヤ株式会社