特許
J-GLOBAL ID：200903093201630090

IZOスパッタリングターゲットの製造方法

発明者：
栗原 敏也

栗原 敏也 について


出願人/特許権者：
株式会社日鉱マテリアルズ

株式会社日鉱マテリアルズ について


代理人 (1件)： 小越 勇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-161583
公開番号（公開出願番号）：特開2002-356767
出願日： 2001年05月30日
公開日（公表日）： 2002年12月13日
要約：
【要約】【課題】 実質的にIZOスパッタリングターゲットとしての特性を損なうことなく酸化インジウム-酸化亜鉛の原料粉末からの工程の短縮を行い、生産性を向上させコストを低減できる製造方法を提供する。【解決手段】 比表面積が8〜10m2/gである酸化インジウム原料粉と比表面積が2〜4m2/gである酸化亜鉛又はこれらを主成分とする原料粉とを湿式媒体攪拌ミルを使用して混合粉砕し、粉砕後の比表面積が原料混合粉の比表面積より1.5〜2.5m2/g増加させた後、成形し、酸素雰囲気中1300〜1500°Cで焼結することを特徴とするIZOスパッタリングターゲットの製造方法。
請求項（抜粋）：
比表面積が8〜10m2/gである酸化インジウム原料粉と比表面積が2〜4m2/gである酸化亜鉛又はこれらを主成分とする原料粉とを湿式媒体攪拌ミルを使用して混合粉砕し、粉砕後の比表面積が原料混合粉の比表面積より1.5〜2.5m2/g増加させた後、成形し、酸素雰囲気中1300〜1500°Cで焼結することを特徴とするIZOスパッタリングターゲットの製造方法。
IPC (5件)：
C23C 14/34 ,  C04B 35/453 ,  C04B 35/495 ,  C04B 35/622 ,  C04B 35/628
FI (5件)：
C23C 14/34 A ,  C04B 35/00 J ,  C04B 35/00 B ,  C04B 35/00 C ,  C04B 35/00 P
Fターム (12件)：
4G030AA32 ,  4G030AA34 ,  4G030BA02 ,  4G030BA15 ,  4G030GA03 ,  4G030GA04 ,  4G030GA11 ,  4G030GA25 ,  4K029BA50 ,  4K029BC09 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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