特許
J-GLOBAL ID：200903093457107807
レベンソン型位相シフトマスクにおいて部分的にカラー付けされた設計をカラーリングするためのシステム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
坂口 博
, 市位 嘉宏
, 上野 剛史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-184783
公開番号（公開出願番号）：特開2006-011447
出願日： 2005年06月24日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：
【課題】 設計レイアウト内部の位相形状衝突を解決できるレベンソン型位相シフトマスクを設計する改善された方法を提供すること。【解決手段】 集積回路設計の像を投影するためのレベンソン型位相シフトマスクを設計する方法である。位相単位は、階層回路設計の各々の単位、例えば、セル、アレイ、ネット、又は、ネット及び/又はセルのアレイごとに、バイナリ・カラー付け可能である。階層単位内の位相又はカラーの割り当ては、まとめてカラーリング・ルールと呼ばれる、リソグラフィ・ルール、製造性能ルール、及び他の設計ルールを満たすように正確にバイナリ・カラー付けされる。他の単位との組み立ての際、階層単位における位相のカラーリングは変化する(例えば、反転されるか又はフリップされる)ことがあるが、集積回路レイアウトの組み立てを簡素化する階層単位の正確なバイナリ・カラー付け機能は、維持される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
集積回路設計の像を投影するためのレベンソン型位相シフトマスクを設計する方法であって、
レベンソン型位相シフトマスクの位相シフト形状に対して位相を割り当てるためのカラーリング・ルールを与えるステップと、
第1の位相を割り当てることができる少なくとも1つの位相シフト形状と、前記第1の位相とは逆の第2の位相を割り当てることができる少なくとも1つの位相シフト形状とを含み、前記位相シフト形状の少なくとも1つが縁部に隣接しており、内部のすべての位相シフト形状が前記カラーリング・ルールに従ってバイナリ・カラー付け可能である、第1のセルを与えるステップと、
第1の位相を割り当てることができる少なくとも1つの位相シフト形状と、前記第1の位相とは逆の第2の位相を割り当てることができる少なくとも1つの位相シフト形状とを含み、前記位相シフト形状の少なくとも1つが前記第1のセルの縁部に隣接しており、内部のすべての位相シフト形状が前記カラーリング・ルールに従ってバイナリ・カラー付け可能である、第2のセルを与えるステップと、
前記第1及び第2のセルの縁部のそれぞれに隣接する前記位相シフト形状同士が互いに隣接するように、該第1のセルの縁部を該第2のセルの縁部に沿って並置するステップと、
前記第1及び第2のセルを含み、該第1及び第2のセルのバイナリ・カラー付け機能を維持しながら前記カラーリング・ルールに従ってカラー付け可能であるように構成されたセル・アレイを生成するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (1件)：
引用特許：
出願人引用 (2件)
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米国特許第5,883,813号明細書
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米国特許第6,609,245号明細書
審査官引用 (6件)
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