特許
J-GLOBAL ID：200903093493697149

液晶表示素子及びその製造方法

発明者：
杉山 貴

杉山 貴 について


出願人/特許権者：
スタンレー電気株式会社

スタンレー電気株式会社 について


代理人 (2件)： 高橋 敬四郎 ,  来山 幹雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-386275
公開番号（公開出願番号）：特開2005-148442
出願日： 2003年11月17日
公開日（公表日）： 2005年06月09日
要約：
【課題】 マルチドメイン方式の液晶表示素子を、光配向処理工程を用いて製造する。【解決手段】 液晶分子を平均的に表面に対してほぼ垂直方向に配向させる性質を有し、光照射によってプレティルト角を付与することのできる配向材料の膜を、電極を有する第1の基板表面に形成する。第1の基板表面に形成された配向材料の膜に、第1の基板の法線方向から傾いた方向から光を照射し、垂直配向からのプレティルト角の異なる2種類の微小領域を形成する。液晶分子を平均的に表面に対してほぼ垂直方向に配向させる性質及び液晶がアイソトロピック相から液晶相に戻ったとき配向復帰性を有する配向材料の膜を、電極を有する第2の基板表面に形成する。第1の基板と第2の基板とを、配向材料の膜が形成された面を向き合わせて対向配置し、第1及び第2の基板間に液晶層を形成する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
(a)液晶分子を平均的に表面に対してほぼ垂直方向に配向させる性質を有し、光照射によってプレティルト角を付与することのできる配向材料の膜を、電極を有する第1の基板表面に形成する工程と、 (b)前記第1の基板表面に形成された配向材料の膜に、前記第1の基板の法線方向から傾いた方向から光を照射し、垂直配向からのプレティルト角の異なる2種類の微小領域を形成する工程と、 (c)液晶分子を平均的に表面に対してほぼ垂直方向に配向させる性質及び液晶がアイソトロピック相から液晶相に戻ったとき配向復帰性を有する配向材料の膜を、電極を有する第2の基板表面に形成する工程と、 (d)前記第1の基板と前記第2の基板とを、配向材料の膜が形成された面を向き合わせて対向配置し、前記第1及び第2の基板間に液晶層を形成する工程と を有する液晶表示素子の製造方法。
IPC (2件)：
G02F1/1337 ,  G02F1/139
FI (2件)：
G02F1/1337 505 ,  G02F1/139
Fターム (18件)：
2H088FA19 ,  2H088GA02 ,  2H088HA03 ,  2H088HA28 ,  2H088JA04 ,  2H088KA14 ,  2H088LA02 ,  2H088LA09 ,  2H088MA07 ,  2H088MA20 ,  2H090HA11 ,  2H090HB07Y ,  2H090HC05 ,  2H090HD11 ,  2H090MA01 ,  2H090MA10 ,  2H090MA15 ,  2H090MB12
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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