特許
J-GLOBAL ID:200903093748120037
真空装置及び真空ゲート弁
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
前田 弘 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-148447
公開番号(公開出願番号):特開2000-337553
出願日: 1999年05月27日
公開日(公表日): 2000年12月05日
要約:
【要約】【課題】 真空容器2の開口13と略平行な鉛直平面に沿って昇降移動する支持体駆動ロッド56に固定されて移動可能な弁板支持体30と、この弁板支持体30に支持されて真空容器2の開口13を開閉する弁板25と、弁板支持体30が閉弁位置にあるときに弁板25を開閉させる平行リンク機構42とを備えた真空ゲート弁20において、弁板支持体30と弁板25との間に設けられて平行リンク機構42を覆う機構収容ベローズ54、及び支持体駆動ロッド57と弁箱21の底部との間に設けられて支持体駆動ロッド56を覆う駆動ロッド収容ベローズ75の耐久性や信頼性を高め、ベローズ54,75の電気的絶縁処理を不要とし、その磁化を防止する。【解決手段】 平行リンク機構42を覆う機構収容ベローズ54と、支持体駆動ロッド56を覆う駆動ロッド収容ベローズ75とをいずれもPTFE製のベローズとする。
請求項(抜粋):
真空室に、固定部に対し連結手段を介して連結されかつ固定部と相対的に移動する可動部が設けられた真空装置であって、上記可動部と固定部との間に上記連結手段を覆う樹脂製のベローズが設けられていることを特徴とする真空装置。
IPC (3件):
F16K 51/02
, F16K 3/18
, F16K 41/10
FI (3件):
F16K 51/02 B
, F16K 3/18 A
, F16K 41/10
Fターム (12件):
3H053AA22
, 3H053AA25
, 3H053AA26
, 3H053AA31
, 3H053BD01
, 3H053BD05
, 3H053DA09
, 3H066AA03
, 3H066BA12
, 3H066BA17
, 3H066BA19
, 3H066BA38
引用特許:
審査官引用 (15件)
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真空処理装置およびその方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-100942
出願人:三菱電機株式会社
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処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-240806
出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社, 株式会社イワキ
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特開昭57-114065
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特開昭57-184759
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-050766
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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特開平3-288069
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無摺動真空ゲートバルブ及び弁板
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-262110
出願人:入江工研株式会社
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特開昭57-114065
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特開昭57-184759
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特開平3-288069
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特開平4-262183
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特開昭59-201857
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無発塵ゲートバルブ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-295171
出願人:エスエムシー株式会社
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特開平4-347084
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特開昭56-090165
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