特許
J-GLOBAL ID:200903094184300028
フッ化物単結晶からなる光学素子作製用素材とその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
,
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-295554
公開番号(公開出願番号):特開2000-128696
出願日: 1998年10月16日
公開日(公表日): 2000年05月09日
要約:
【要約】【課題】 従来よりも複屈折の値を低減したフッ化物単結晶からなる光学素子作製用素材とその製造方法を提供すること。【解決手段】 結晶育成により得られたフッ化物単結晶のインゴット21から{111}結晶面22が平行2平面となるように光学素子作製用素材23を切り出した後、該素材を熱処理することによりその光学性能を向上させることを特徴とするフッ化物単結晶からなる光学素子作製用素材の製造方法。
請求項(抜粋):
結晶育成により得られたフッ化物単結晶のインゴットから{111}結晶面が平行2平面となるように光学素子作製用素材を切り出した後、該素材を熱処理することによりその光学性能を向上させることを特徴とするフッ化物単結晶からなる光学素子作製用素材の製造方法。
IPC (3件):
C30B 29/12
, C30B 33/02
, G02B 1/02
FI (3件):
C30B 29/12
, C30B 33/02
, G02B 1/02
Fターム (5件):
4G077AA02
, 4G077BE02
, 4G077FE11
, 4G077FG14
, 4G077HA01
引用特許:
審査官引用 (5件)
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蛍石単結晶のアニール方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-055264
出願人:株式会社ニコン, 応用光研工業株式会社
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光リソグラフィー用蛍石
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-134720
出願人:株式会社ニコン, 応用光研工業株式会社
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回路パターン露光用光学系
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-090232
出願人:信越石英株式会社
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