特許
J-GLOBAL ID：200903094442022038
リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 森 徹
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-374829
公開番号（公開出願番号）：特開2006-191060
出願日： 2005年12月27日
公開日（公表日）： 2006年07月20日
要約：
【課題】本発明は、リソグラフィ装置において露光における不正確さをもたらす基盤の厚さの変化を修正するために、個々に制御可能な部材の位置またはマイクロレンズ・アレーを使用して、そのアレーと基盤との間隔距離を制御できるように改良されたリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】本発明によるリソグラフィ装置は、パターン形成された放射ビームを基盤のターゲット箇所に投影するようになされ、また個々のレンズが放射ビームの異なる部分を伝達するように一平面内に配列されたレンズ・アレーと、前記基盤の一部と前記レンズ・アレーの一部との間隔距離を測定するようになされた測定装置と、前記測定装置による測定に基づいてレンズ・アレーの全体の位置および傾きを調整するようになされた駆動システムとを含むことを特徴とする。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
放射ビームを調整するようになされた照射系と、
パターン形成された放射ビームを形成するために放射ビームの横断面にパターンを与えることができる個々に制御可能な部材のアレーと、
基盤を支持する基盤テーブルと、
パターン形成された放射ビームを基盤のターゲット箇所に投影するようになされ、個々のレンズが放射ビームの異なる部分を伝達するように一平面内に配列されたレンズ・アレーを含む投影系と、
前記基盤の一部と前記レンズ・アレーの一部との間隔距離を測定するようになされた測定装置と、
前記測定装置による測定に基づいてレンズ・アレーの全体の位置と傾きとの少なくとも一方を調整するようになされた駆動システムとを含むリソグラフィ装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, G02B 7/28
H01L21/30 529
, G03F7/20 501
, G02B7/11 M
2H051AA00
, 2H051AA10
, 2H051BA72
, 2H051CB07
, 2H051GB15
, 2H097AA03
, 2H097CA06
, 2H097LA10
, 2H097LA12
, 5F046BA07
, 5F046CB12
, 5F046CB18
, 5F046CB27
