特許
J-GLOBAL ID：200903066448484870
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 岩本 行夫
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-158545
公開番号（公開出願番号）：特開2004-363590
出願日： 2004年05月28日
公開日（公表日）： 2004年12月24日
要約：
【課題】重ね合わせ精度を向上させるリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】照射システムと、パターン化手段と、基板テーブルと、投影システムと、検出器と、制御器とから構成される。露光及び位置合わせモジュール15は、検出器ユニット16と露光ユニット17から構成され、基板が露光及び位置合わせモジュールの真下で走査されるとき、検出器ユニット16が基板10上の位置合わせ標識を検査する。基板10のそれぞれの部分に関して検査器ユニット16によって測定された、直線位置、配向、及び膨張に関する情報が露光ユニット17に伝達可能であり、基板が露光ユニット17の真下を通過しながら基板が露光されるとき、基板の当該部分に関する露光条件を最適化することができる。【選択図】図2a
請求項（抜粋）：
リソグラフィ装置であって、
放射の投影ビームを供給するための照射システムと、
前記投影ビームの断面にパターンを与える役割を果たすパターン化手段と、
基板を支持するための基板テーブルと、
前記パターン化したビームを前記基板の標的部分の上に投影するための投影システムと、
前記投影システムが前記パターン化したビームを前記基板上に投影するための位置に前記基板がある間に、前記基板を検査するための検出器と、
前記検出器からの情報に応答して、前記基板上に投影された前記パターンの前記基板に対する位置、前記基板上に投影された前記パターンの倍率、及び最適焦点像平面の少なくとも1つを調整するための制御器とを備え、
前記検出器が前記基板の複数の部分を前記基板の全幅にわたって同時に検査するための複数のセンサを有し、さらに前記パターン化手段及び前記投影システムが前記基板の全幅を露光するように配置され、それによって前記装置に対する前記基板の1回の通過で前記基板を検査しかつ露光することができる、リソグラフィ装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 529
, G03F7/20 521
, H01L21/30 516A
5F046BA10
, 5F046DA13
, 5F046DA14
, 5F046DB04
, 5F046DC10
