特許
J-GLOBAL ID：200903094629278451
レーザーイオン化質量分析法及びレーザーイオン化質量分析に使用される試料支持用基板
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-117484
公開番号（公開出願番号）：特開2008-298770
出願日： 2008年04月28日
公開日（公表日）： 2008年12月11日
要約：
【課題】パルスレーザー光と基板の表面または試料と基板の界面との相互作用により発生するイオン(指標イオン)の信号を利用してパルス毎のスペクトルに分類または演算などの操作を施し、望ましい信号の抽出や望ましくないバックグラウンドノイズの除去を行うようにしたレーザーイオン化質量分析法及びその試料用の基板を実現する。【解決手段】基板の上にスペクトル解析を行う対象である試料を支持し、レーザーを照射し発生するイオンに基づいてレーザーイオン化質量分析を行うレーザーイオン化質量分析方法において、レーザーと基板表面、又はレーザーと基板及び試料の界面の相互作用からイオンを発生させ、該イオンを指標イオンとしてその信号を利用し、レーザーイオン化質量分析方法におけるノイズとなる信号を明確にして、ノイズに影響されないスペクトルの解析を行う。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板の上にスペクトル解析を行う対象である試料を支持し、レーザーを照射し発生するイオンに基づいてレーザーイオン化質量分析を行うレーザーイオン化質量分析方法であって、
前記レーザーと基板表面、又は前記レーザーと基板及び試料の界面の相互作用からイオンを発生させ、該イオンを指標イオンとしてその信号を利用し、レーザーイオン化質量分析方法におけるノイズとなる信号を明確にして、ノイズに影響されないスペクトルの解析を行うことを特徴とするレーザーイオン化質量分析方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G01N27/64 B
, G01N27/62 Y
, G01N27/62 V
2G041CA01
, 2G041DA03
, 2G041DA04
, 2G041EA01
, 2G041EA03
, 2G041GA16
, 2G041JA07
, 2G041JA08
, 2G041LA01
, 2G041LA09
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (2件)
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