特許
J-GLOBAL ID:200903095186062481
塗布装置、基板の受け渡し方法及び塗布方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (5件):
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-183388
公開番号(公開出願番号):特開2009-018917
出願日: 2007年07月12日
公開日(公表日): 2009年01月29日
要約:
【課題】使用時のコストを低下することができる塗布装置、基板の受け渡し方法及び塗布方法を提供すること。【解決手段】基板搬送部の搬入側ステージ及び搬出側ステージに外部搬送機構との間で基板を受け渡す際に当該外部搬送機構の一部を収容する収容部がそれぞれ設けられているので、外部搬送機構の一部を収容させる際に基板の受け渡しを行うことができる。これにより、昇降ピンを設けなくても基板の受け渡しを行うことができるので、その分のコストを低下させることができる。また、昇降ピンを設けなくても基板の受け渡しを行うことができるので、処理タクトを短縮化することが可能となる。【選択図】図5
請求項(抜粋):
基板を浮上させて搬送する基板搬送部と、前記基板搬送部に搬送させつつ前記基板の表面に液状体を塗布する塗布部と、を備える塗布装置であって、
前記基板搬送部には、前記基板を搬入する基板搬入領域と、前記基板を搬出する基板搬出領域とが設けられており、
前記基板搬入領域及び前記基板搬出領域のうち少なくとも一方には、外部搬送機構との間で前記基板を受け渡す際に当該外部搬送機構の一部を収容する収容部が設けられている
ことを特徴とする塗布装置。
IPC (5件):
B65G 49/06
, B05C 13/00
, B05D 3/00
, B65G 51/03
, H01L 21/677
FI (5件):
B65G49/06 Z
, B05C13/00
, B05D3/00 C
, B65G51/03 C
, H01L21/68 A
Fターム (30件):
4D075AC73
, 4D075DA06
, 4D075DB13
, 4D075DC24
, 4F042AA02
, 4F042AA06
, 4F042BA08
, 4F042DF16
, 4F042DF21
, 4F042DF24
, 5F031CA05
, 5F031FA02
, 5F031FA07
, 5F031FA14
, 5F031GA02
, 5F031GA24
, 5F031GA42
, 5F031GA48
, 5F031GA49
, 5F031HA13
, 5F031HA32
, 5F031JA01
, 5F031JA30
, 5F031JA32
, 5F031KA01
, 5F031KA10
, 5F031LA03
, 5F031LA08
, 5F031MA23
, 5F031PA18
引用特許:
出願人引用 (1件)
-
スリットノズル洗浄装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-089253
出願人:東京応化工業株式会社, タツモ株式会社
審査官引用 (5件)
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