特許
J-GLOBAL ID：200903095203340474

相補型ステンシルマスク、その作成方法及びパターン形成方法

発明者：
松尾 隆弘

松尾 隆弘 について


出願人/特許権者：
松下電器産業株式会社

松下電器産業株式会社 について


代理人 (6件)： 前田 弘 ,  小山 廣毅 ,  竹内 宏 ,  竹内 祐二 ,  今江 克実 ,  原田 智雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-276932
公開番号（公開出願番号）：特開2005-039151
出願日： 2003年07月18日
公開日（公表日）： 2005年02月10日
要約：
【課題】 相補型ステンシルマスクにおける局所的な応力集中を防止すると共に該マスクを用いて重ね合わせ露光を行なう際におけるパターン転写欠陥の発生を防止する。 【解決手段】 転写すべき所定のパターン100を、該パターン100が分割されてなる方形状パターン同士が交差する部分からなる第1のパターン110と、所定のパターン100から第1のパターン110を差し引いた残りの直線的な第2のパターン120とに分割して各相補マスクに配置する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
所定のパターンを転写するための一組の相補型ステンシルマスクの作成方法であって、 前記所定のパターンを複数の方形状パターンに分割する工程と、 前記方形状パターン同士の隣接部分であるパターン交差部を抽出し、該抽出したパターン交差部からなる第1のパターンを作成する工程と、 前記所定のパターンから前記第1のパターンを差し引くことにより第2のパターンを作成する工程と、 前記一組の相補型ステンシルマスクを構成する第1のマスクに前記第1のパターンと対応する第1の開口部を設けると共に、前記一組の相補型ステンシルマスクを構成する第2のマスクに前記第2のパターンと対応する第2の開口部を設ける工程とを備えていることを特徴とする相補型ステンシルマスクの作成方法。
IPC (5件)：
H01L21/027 ,  G03F1/08 ,  G03F1/16 ,  H01J9/14 ,  H01J37/305
FI (5件)：
H01L21/30 541S ,  G03F1/08 B ,  G03F1/16 E ,  H01J9/14 A ,  H01J37/305 B
Fターム (8件)：
2H095BA09 ,  2H095BB01 ,  2H095BB02 ,  2H095BB36 ,  5C034BB01 ,  5C034BB05 ,  5F056FA01 ,  5F056FA05
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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