特許
J-GLOBAL ID：200903006659528987
投影マスク、電子線露光方法、電子線露光装置、半導体装置及び半導体装置の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-173786
公開番号（公開出願番号）：特開2002-365787
出願日： 2001年06月08日
公開日（公表日）： 2002年12月18日
要約：
【要約】【課題】 投影マスク製造時の寸法誤差が被露光対象である基板上に反映されてしまうことを抑止して、基板上に形成するパターンの寸法精度を向上させる。【解決手段】 電子線を透過させて基板1上を選択的に露光する投影マスク3であって、基板1上を露光するための所定のパターンが形成された複数の露光領域4a,4b,4c,4d・・・と、複数の露光領域4a,4b,4c,4d・・・のそれぞれに対応して形成された寸法測定用のマーク6とを備える。マーク6の線幅の測定結果に基づいて、電子線量を補正することにより均一な線幅のパターンを露光することが可能となる。
請求項（抜粋）：
電子線を透過させて基板上を選択的に露光する投影マスクであって、前記基板上を露光するための所定のパターンが形成された複数の露光領域と、前記複数の露光領域のそれぞれに近接して形成された寸法測定用のパターンとを備えたことを特徴とする投影マスク。
IPC (4件)：
G03F 1/16
, G03F 7/20 504
, H01J 37/305
, H01L 21/027
G03F 1/16 B
, G03F 7/20 504
, H01J 37/305 B
, H01L 21/30 541 S
, H01L 21/30 541 M
2H095BA08
, 2H095BB02
, 2H095BE06
, 2H097BB01
, 2H097CA16
, 2H097JA02
, 2H097LA10
, 5C034BB05
, 5C034BB10
, 5F056AA22
, 5F056CD11
, 5F056FA05
