質量分析のイオン化方法および質量分析装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田宮寛祉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-242091
公開番号（公開出願番号）：特開2002-124208
出願日： 2001年08月09日
公開日（公表日）： 2002年04月26日
要約：

【要約】【課題】試料ガスが金属イオン放出体に接触することを抑制して当該金属イオン放出体の汚染を防ぎ、長期的かつ安定的に質量分析を行える質量分析のイオン化方法および質量分析装置を提供する。【解決手段】イオン化室16で試料ガスに金属イオンを付着して試料ガスイオンを生成し、試料ガスイオンが電磁場によって形成された質量分析部13を通って質量分離され、質量分離された試料ガスイオンをイオン電流として検出部14で検出し測定する。さらにガス流が粘性流となる減圧雰囲気に制御された領域の上流側に金属イオンを放出する金属イオン放出体21を配置し、金属イオンが移送される下流側に試料ガスを導入する試料ガス流入部22を配置し、金属イオンが付着されイオン化された試料ガスをアパーチャ板17の開口17aを通して質量分析部へ移送するように構成される。

請求項（抜粋）：

イオン化室で試料ガスに金属イオンを付着して試料ガスイオンを生成し、前記試料ガスイオンが電磁場によって形成された質量分析部を通って質量分離され、質量分離された前記試料ガスイオンをイオン電流として検出測定する質量分析のイオン化方法であって、ガス流が粘性流となる減圧雰囲気に制御された領域の上流側で前記金属イオンを生成し、イオン化室内に形成された少なくともガス流によって前記金属イオンを下流側に移送し、前記下流側の領域に前記試料ガスを導入することによって、前記試料ガスイオンを生成することを特徴とする質量分析のイオン化方法。

IPC (3件)：

H01J 49/10 , G01N 27/62 , H01J 49/04

FI (4件)：

H01J 49/10 , G01N 27/62 G , G01N 27/62 V , H01J 49/04

Fターム (6件)：

5C038GG13 , 5C038GH02 , 5C038GH04 , 5C038GH08 , 5C038GH11 , 5C038GH13

引用特許：

審査官引用 (6件)

ハロゲン化化合物の質量分析方法および質量分析装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-356725 出願人：アネルバ株式会社
大気圧イオン化質量分析計
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-099100 出願人：株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社
アモルファスシリコン膜の製造方法及び製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-054822 出願人：株式会社ライムズ

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引用文献：

審査官引用 (2件)

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