粒子線治療システム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：春日讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-212704
公開番号（公開出願番号）：特開2009-045170
出願日： 2007年08月17日
公開日（公表日）： 2009年03月05日
要約：

【課題】スポットスキャニング法による粒子線治療に好適な照射ビームが得られ、しかも、安価な粒子線治療システムを提供することにある。【解決手段】粒子線治療システム100は、シンクロトロン200と、ビーム輸送系300と、照射装置500から構成される。制御装置600は、照射装置500に荷電粒子ビームを供給する際に、出射装置26に印加する高周波電磁場をONし、照射装置への荷電粒子ビームの供給を遮断する際に、出射装置に印加する高周波電磁場をOFFするとともに、ビーム輸送系300あるいはシンクロトロン200に設置した電磁石で荷電粒子ビームの供給を遮断し、さらに、出射装置26に印加する高周波電磁場のONからOFFに同期して、加速空胴25に印加する高周波加速電圧をONからOFFにする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

加速空胴に印加した高周波加速電圧で荷電粒子ビームを所定のエネルギーまで加速し、出射装置に印加した高周波電磁場で安定限界を超えさせて荷電粒子ビームを出射するシンクロトロンと、前記シンクロトロンから出射された荷電粒子ビームを治療室まで導くビーム輸送系と、前記治療室で患者の患部形状に合わせて荷電粒子ビームを照射する照射装置から構成される粒子線治療システムであって、前記照射装置に荷電粒子ビームを供給する際に、前記出射装置に印加する前記高周波電磁場をONし、照射装置への荷電粒子ビームの供給を遮断する際に、出射装置に印加する高周波電磁場をOFFするとともに、前記ビーム輸送系あるいは前記シンクロトロンに設置した電磁石で荷電粒子ビームの供給を遮断し、さらに、前記出射装置に印加する前記高周波電磁場のONからOFFに同期して、前記加速空胴に印加する高周波加速電圧をONからOFFにする制御装置を備えることを特徴とする粒子線治療システム。

IPC (1件)：

A61N 5/10

FI (2件)：

A61N5/10 H , A61N5/10 S

Fターム (7件)：

4C082AA01 , 4C082AC04 , 4C082AE01 , 4C082AG02 , 4C082AG12 , 4C082AR02 , 4C082AT03

引用特許：

出願人引用 (11件)

特許2833602号公報
特許3874766号公報
特許2596292号公報

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