特許
J-GLOBAL ID:200903014232856544
粒子線治療装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
曾我 道照
, 曾我 道治
, 古川 秀利
, 鈴木 憲七
, 梶並 順
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-115819
公開番号(公開出願番号):特開2006-288875
出願日: 2005年04月13日
公開日(公表日): 2006年10月26日
要約:
【課題】所望の粒子線の照射の軌跡を少ない回数重ね合わせることにより線量分布の一様性が確保できる粒子線治療装置を提供する。【解決手段】粒子線治療装置は、患部に照射するために輸送されてきた粒子線を上記粒子線の進行方向に対して垂直な直交する2方向に上記粒子線の流れを偏向して、周期毎に該周期の始まりに位置する照射位置に戻るように上記粒子線の照射位置を走査し、1つの上記周期の間に画かれる軌跡を複数重ね合わせて所望の計画線量を上記患部に照射する粒子線治療装置において、上記周期の終了の時だけ上記粒子線を遮断することが可能である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
患部に照射するために輸送されてきた粒子線を上記粒子線の進行方向に対して垂直な直交する2方向に上記粒子線の流れを偏向して、周期毎に該周期の始まりに位置する照射位置に戻るように上記粒子線の照射位置を走査し、1つの上記周期の間に画かれる軌跡を複数重ね合わせて所望の計画線量を上記患部に照射する粒子線治療装置において、
上記周期の終了の時だけ上記粒子線を遮断することが可能であることを特徴とする粒子線治療装置。
IPC (3件):
A61N 5/10
, G21K 1/093
, G21K 5/04
FI (4件):
A61N5/10 H
, A61N5/10 P
, G21K1/093 S
, G21K5/04 C
Fターム (8件):
4C082AC04
, 4C082AE02
, 4C082AG02
, 4C082AG13
, 4C082AN02
, 4C082AN04
, 4C082AN05
, 4C082AP02
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (8件)
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引用文献:
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