特許
J-GLOBAL ID：200903095981766705
二成分現像剤
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
細田 芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-297894
公開番号（公開出願番号）：特開2003-107805
出願日： 2001年09月27日
公開日（公表日）： 2003年04月09日
要約：
【要約】【課題】シリカの埋め込みやキャリア上がりを生じることなく、高速機においても、高品質な画像を連続して得ることができる二成分現像剤を提供すること。【解決手段】トナーとキャリアとからなる二成分現像剤であって、前記トナーが平均粒径25nm以上の疎水性シリカを外添してなり、前記キャリアの飽和磁化が50〜95emu/gであり、電界強度100V/cmにおける前記キャリアの表面抵抗率と体積抵抗率の比(表面抵抗率/体積抵抗率)が1×102 〜1×104 m-1である二成分現像剤。
請求項（抜粋）：
トナーとキャリアとからなる二成分現像剤であって、前記トナーが平均粒径25nm以上の疎水性シリカを外添してなり、前記キャリアの飽和磁化が50〜95emu/gであり、電界強度100V/cmにおける前記キャリアの表面抵抗率と体積抵抗率の比(表面抵抗率/体積抵抗率)が1×102〜1×104 m-1である二成分現像剤。
IPC (2件)：
G03G 9/10
, G03G 9/08 375
G03G 9/10
, G03G 9/08 375
2H005AA08
, 2H005BA02
, 2H005BA06
, 2H005CA12
, 2H005CB02
, 2H005CB13
, 2H005EA01
, 2H005EA02
, 2H005EA05
, 2H005EA07
, 2H005FA01
